等離子清洗機是一種全新的高科技技術，利用等離子來達到傳統(tǒng)清洗方法無法達到的效果。等離子體是一種物質(zhì)狀態(tài)，也稱為第四種物質(zhì)狀態(tài)。向氣體施加足夠的能量使其電離，使其變成等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團、受激核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機就是利用這些活性成分的特性來處理樣品表面，從而達到清洗等目的。
 

　　等離子清洗機中產(chǎn)生等離子體的裝置是將兩個電極放置在一個密封的容器中形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度。隨著氣體變得越來越薄，分子間距和分子或離子的自由運動距離變得越來越長。在正負極電場的作用下，它們碰撞形成等離子體。這些離子具有足夠高的活性和能量來破壞幾乎所有的化學鍵，并在任何暴露的表面上引起化學反應。不同氣體的等離子體具有不同的化學性質(zhì)。例如，氧等離子體具有高氧化性能，可以氧化光刻膠產(chǎn)生氣體，從而達到清洗效果。腐蝕性氣體的等離子體具有良好的各向異性，能夠滿足刻蝕的需要。輝光是在等離子體處理過程中發(fā)出的，因此被稱為輝光放電處理。
 

　　等離子清洗機主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。就反應機理而言，等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)成等離子體狀態(tài);氣相物質(zhì)吸附在固體表面;被吸附的基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;分析產(chǎn)物分子以形成氣相;反應殘留物從表面分離。等離子清洗機的特點是它可以處理金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)聚合物材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、環(huán)氧樹脂甚至聚四氟乙烯，而不管要處理的基材類型如何。它還可以清潔整體、局部和復雜的結構。
 

　　等離子清洗機的等離子清洗可以與處理對象無關地進行。它可以處理各種材料，無論是金屬、半導體、氧化物還是聚合物材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂和其他聚合物)都可以用等離子體處理。因此，它特別適用于不耐熱和耐溶劑的材料。還可以選擇性地對材料的整體、局部或復雜結構進行局部清洗。當清潔和去污完成時，材料本身的表面性能可以得到改善。例如改善表面的潤濕性和改善膜的粘附性，這在許多應用中是非常重要的。